現場の即戦力シリーズはじめての半導体製造装置

[表紙]はじめての半導体製造装置

紙版発売

A5判/264ページ

定価2,618円(本体2,380円+税10%)

ISBN 978-4-7741-4750-5

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この本の概要

本書は,半導体製造装置の入門書ですが,単に半導体製造装置の種類や技術を紹介するにとどまらず,半導体市場や技術との絡み,装置としての特殊性といった解説を交えて,読者がより広く半導体製造装置を捉えられるように執筆されています。本書を読み進めるに従い,半導体産業の全体までも徐々に理解できるようになるでしょう。

本書は全部で10章からなりますが,少し変わった構成をとっています。半導体製造装置の世界を見るときには,産業として大きな視野で捉えることが重要です。技術的およびビジネス的に見て,どこに焦点を当てるべきかが分かることが必要です。本書では,この分野の初学者への導入として,0章を設け,「半導体製造装置という世界」を展望しています。

半導体製造装置に関係する読者だけでなく,半導体に関わるすべての人に一読の価値がある入門書です。

こんな方におすすめ

  • 半導体製造装置の設計・開発者
  • 半導体デバイスの製造技術者・プロセスエンジニア
  • 半導体用材料メーカーの技術者
  • 半導体製造技術について勉強し知識を深めたいと志す人・研修生・学生

著者プロフィール

前田和夫(まえだかずお)

1959年横浜国立大学工学部化学工学科卒業。1959~1978年富士通㈱勤務。1977年東京大学より工学博士号授与。1978~1982年パイオニア㈱勤務。1979年米国SEMI(半導体装置材料協会)よりSEMMY賞授与。1982~1988年アプライドマテリアルジャパン㈱勤務。1988年㈱半導体プロセス研究所設立。2008年9月逝去。

主な著書は,『LSI技術』(電気通信学会)共著,『超LSIプロセスデータハンドブック』(サイエンスフォーラム)共編,『VLSIとCVD』(槇書店),『VLSIプロセス装置ハンドブック』,『最新LSIプロセス技術』,『はじめての半導体プロセス』,『はじめての半導体ナノプロセス』(以上,工業調査会)。